根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?()
A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,
D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算
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根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?()
A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,
D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算
下列不属于技术秘密专有权特征的是()。
A、技术秘密专有权不具有独占性
B、技术必须具有秘密性、实用性与保密性
C、其效力范围非常明确
D、技术秘密专有权具有独占性
甲公司和乙公司合作创作集成电路布图设计,若创作完成后,其专有权()。
()等包括在资源资产评估范围中。
A、矿产资源实物资产
B、地质勘查成果专有权无形资产
C、基础地质成果专有权无形资产
D、矿产发现权和探矿许可证
A.专有权
B.特别权
C.专营权
D.特营权