什么是电阻率？它的单位是什么（国际标准单位制）？
接触是由导电材料如铝、多晶硅或铜制成的连线将电信号传输到芯片的不同部分。
A、对
B、错
离子注入是唯一能够精确控制掺杂的手段。
A、对
B、错
杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种：间隙式扩散、替位式扩散。其中间隙式扩散比替位式扩散困难。
A、对
B、错
图a中M1和M2为某CMOS工艺中的两个NMOS管，M1的W/L＝12μm/6μm，M2的W/L＝4μm/2μm，其它物理参数及偏置均相同。图b中给出了M1的漏极电流Id1随Vgs的变化曲线，请画出Id2的大致变化，并说明Id1和Id2有什么不同，并解释不同的主要原因。