清理现场应先清大宗物品、材料,后清散碎物品和垃圾。清理的大宗物品、材料及散碎物品和垃圾等,应运至指定地点堆放。
A、对
B、错
离子注入是一个物理过程,不发生化学反应。
晶体管的源漏区的掺杂采用自对准技术,一次掺杂成功。
有限表面源扩散
升华
氧化物有两个生长阶段来描述,分别是线性阶段和抛物线阶段。