人员持续不断地进出净化间,是净化间沾污的最大来源。
A、对
B、错
有限表面源扩散
晶体管的源漏区的掺杂采用自对准技术,一次掺杂成功。
离子注入是一个物理过程,不发生化学反应。
氧化物有两个生长阶段来描述,分别是线性阶段和抛物线阶段。
升华